バナジウム(V) - 2N5

用途:その他,ターゲット
素記号:V 純度:V≧99.5% 原子量:50.94 熔点:1910℃ 沸点:3407℃ 密度:6.11g/cm⊃3; 用途:ターゲット材 梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシ ...
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寸法 販売単位 発送(日) 単価 数量
V - 2N5
Φ50.8*3mm
pcs 15 ¥12,392
V - 2N5
Φ50.8*4mm
pcs 15 ¥12,392
V - 2N5
Φ50.8*5mm
pcs 15 ¥12,392
V - 2N5
Φ50.8*6mm
pcs 15 ¥12,392
V - 2N5
Φ76.2*3mm
pcs 15 ¥26,332
V - 2N5
Φ76.2*4mm
pcs 15 ¥26,332
V - 2N5
Φ76.2*5mm
pcs 15 ¥26,332
V - 2N5
Φ76.2*6mm
pcs 15 ¥26,332
V - 2N5
Φ101.6*3mm
pcs 15 ¥43,371
V - 2N5
Φ101.6*4mm
pcs 15 ¥43,371
V - 2N5
Φ101.6*5mm
pcs 15 ¥43,371
V - 2N5
Φ101.6*6mm
pcs 15 ¥43,371
V - 2N5
Φ152.4*3mm
pcs 15 ¥83,644
V - 2N5
Φ152.4*4mm
pcs 15 ¥83,644
V - 2N5
Φ152.4*5mm
pcs 15 ¥83,644
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用途:その他,ターゲット

素記号:V

純度:V≧99.5%

原子量:50.94

熔点:1910℃

沸点:3407℃

密度:6.11g/cm⊃3;

用途:ターゲット材

梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装

 

  • 日本国内での実績もあり、品質保証致します。

ミルシート有。

成分
V
99.5%
その他材料比較
分類名 特性 用途 その他説明
比重熔点沸点硬度融点
金属コバルト(Co) - 3N5
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8.92g/cm³1495℃2927℃--ターゲット、金属コバルトは、良好な半導体性質と、磁性及び導電性能を有しています。 高純度コバルトは、磁気記録媒体、光電気のセンサー、集積回路等の装置部品によく使われている重要な材料でもあります。
金属クロム(Cr) - 3N5
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7.19g/cm³1907℃2671℃--半導体チップ、精密電子部品、光学材料のコーティング材料、金属クロムは、耐摩耗、抗腐食、スパッタリングの付着力が良く、なお、優れた導熱導電性を有しているため、半導体チップ、精密電子部品、光学材料のコーティング材料として使われています。
金属亜鉛(Zn) - 4N5
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7.14g/cm³419.5℃907℃--ターゲット材、半導体材料、
結晶ジルコニウム(Zr) - 3N5
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6.506g/cm³1855℃3580℃--ターゲット、特殊合金溶解、
金属ゲルマニウム(Ge) - 5N
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5.32g/cm³937.2℃2830℃--ターゲット、太陽光半導体部品、
金属マグネシウム(Mg)
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1.738g/cm³650℃1100℃--ターゲット材、
金属ボロン(B) - 3N
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2.34g/cm³2075℃2550℃--ターゲット、半導体材料、
金属バリウム(Ba) - 2N5
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3.62g/cm³727℃1640℃--ターゲット、脱ガス・エージェント、ゲッター材、合金材料、
金属ストロンチウム(Sr) - 2N5
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2.64g/cm³777℃1382℃--ターゲット材、ゲッター材、
金属アンチモン(Sb) -3N
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6.69g/cm³630℃1587℃3モース硬度-ターゲット、アンチモンは半金属に分類されるレアメタルの一つです。古くは顔料や化粧品の材料に使われたこともありましたが、毒性のため現在はこうした用途では使われていません。主として半導体材料や電極、合金材料などに使われています。三酸化アンチモンには難燃効果もあるため、燃えやすいゴム、プラスチック、繊維などに添加することで防燃材としても活用されています。
金属カルシウム(Ca) - 2N5
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1.55g/cm³842℃1484℃3モース硬度-脱ガス・エージェント、ゲッター材、ターゲット、
金属リチウム(Li) - 3N
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0.53g/cm³180.541330℃3モース硬度-ターゲット、
金属鉛(Pb) - 4N5
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11.34g/cm³327.5℃1749℃3モース硬度-ターゲット、
金属タングステン(W) - 3N5
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19.30g/cm³3695℃5828℃3モース硬度-ターゲット、
金属モリブデン(Mo) - 3N5
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10.30g/cm³2896℃4912℃3モース硬度-ターゲット、
金属タンタル(Ta) - 3N5
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16.69g/cm³3290℃5731℃3モース硬度-ターゲット、
金属タンタル(Ta) - 4N
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16.69g/cm³3290℃5731℃3モース硬度-ターゲット、
金属ニオブ(Nb) - 3N
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8.57g/cm³2750℃5017℃3モース硬度-ターゲット、
金属テルル(Te) - 4N
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6.24g/cm³450℃988℃2.25モース硬度-ターゲット、半導体部品、テルルはカルコゲンに分類される半金属の一つで、レアメタルでもあります。有毒な金属であり、体内に取り込まれると悪臭を放つとされます。 テルルの主要な用途は鉄鋼素材へ添加することで快削性や耐食性を向上させることができることから、合金添加元素として用いられるほか、DVD-RAMの記憶媒体や熱電変換素子としても使われます。
金属ニッケル(Ni) - 4N
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8.908g/cm³1455℃2732℃2.25モース硬度-スパッタリングターゲット、磁性薄膜、特殊電子材料及び合金材料、
金属マンガン(Mn) - 3N
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7.3g/cm³1246℃2095℃2.25モース硬度-ターゲット、
金属ビスマス(Bi) - 4N
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9.8g/cm³1246℃1560℃2.25モース硬度271.3℃ターゲット、クリーンルームでの真空溶解により製造されています。
結晶ハフニウム(Hf) - 3N
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13.31g/cm³2227℃4602℃2.25モース硬度271.3℃ターゲット、
高純度チタン(Ti) - 5N
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4.506g/cm³1668℃3277℃2.25モース硬度271.3℃ターゲット、半導体材料、スパッタリングターゲット材、真空装置内のゲッター材料、
金属バナジウム(V) - 2N5
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6.11g/cm³1910℃3407℃2.25モース硬度271.3℃ターゲット材、
分類名 成分
金属コバルト(Co) - 3N5
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Co -----
99.95%-----
金属クロム(Cr) - 3N5
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Cr -----
99.95%-----
金属亜鉛(Zn) - 4N5
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Zn -----
99.995%-----
結晶ジルコニウム(Zr) - 3N5
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Zr -----
99.95%-----
金属ゲルマニウム(Ge) - 5N
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Ge -----
99.999%-----
金属マグネシウム(Mg)
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Mg -----
99.95%-----
金属ボロン(B) - 3N
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Be -----
99.9%-----
金属バリウム(Ba) - 2N5
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Ba -----
99.5%-----
金属ストロンチウム(Sr) - 2N5
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Sr -----
99.5%-----
金属アンチモン(Sb) -3N
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Sb -----
99.9%-----
金属カルシウム(Ca) - 2N5
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Ca -----
99.5%-----
金属リチウム(Li) - 3N
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Li -----
99.9%-----
金属鉛(Pb) - 4N5
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Pb -----
99.95%-----
金属タングステン(W) - 3N5
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W -----
99.95%-----
金属モリブデン(Mo) - 3N5
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Mo -----
99.95%-----
金属タンタル(Ta) - 3N5
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Ta -----
99.95%-----
金属タンタル(Ta) - 4N
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Ta -----
99.99%-----
金属ニオブ(Nb) - 3N
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Nb -----
99.9%-----
金属テルル(Te) - 4N
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Te -----
99.99%-----
金属ニッケル(Ni) - 4N
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Ni -----
99.99%-----
金属マンガン(Mn) - 3N
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Mn -----
99.9%-----
金属ビスマス(Bi) - 4N
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Bi Cu Pb Zn Fe Ag
99.99%0.001%0.001%0.0005%0.001%0.004%
結晶ハフニウム(Hf) - 3N
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Hf -----
99.9%-----
高純度チタン(Ti) - 5N
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Ti -----
99.999%-----
金属バナジウム(V) - 2N5
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V -----
99.5%-----
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